日本shinkuu真空簡單的真空氣相沉積系統(tǒng)
通過在外殼中內(nèi)置TMP來實現(xiàn)緊湊的外殼。由于它是臺式機類型,因此不會占用空間。RP被放置在地板上。
我們以低價提供帶有小TMP + RP排氣系統(tǒng)的清潔,高真空氣相沉積設備。一個簡單的操作系統(tǒng),消除了復雜的排氣操作,僅打開和關(guān)閉開關(guān)。
可以使用鎢筐沉積金,鋁,鉻,銀等。對于碳氣相沉積,使用了一種鉗式氣相沉積槍型,它會隨著碳的蒸發(fā)而蒸發(fā)鋒利的鉛筆型替換芯。(不能使用Φ5mm碳棒。)
購買時,我們將選擇碳氣相沉積電極或金屬氣相沉積電極。可以選擇購買其他電極。
碳蒸鍍電極
Φ0.5mm碳蒸鍍電極,僅用于碳。
它能夠在高真真空區(qū)中沉積碳,并且可以形成具有優(yōu)異膜質(zhì)量和膜強度的碳膜。
附帶的防污蓋可醉大程度地減少碳蒸氣沉積的擴散范圍,并減少清潔負擔。
建議使用碳SLC-30作為碳氣相沉積源。
金屬氣相
沉積電極這是專門用于鎢筐的金屬氣相沉積電極。
可以輕松地沉積金,鋁,鉻等。隨附的防污罩可醉大程度地減少氣相沉積范圍,并減少清潔負擔。
主要產(chǎn)品規(guī)格
項目 | 規(guī)范 |
電源 | AC100V(單相100V15A) |
裝置尺寸 | 寬400毫米,深425毫米,高546毫米 (設備重量25千克) |
旋轉(zhuǎn)泵(外部) | 排氣速度50?/ min(G-50DA) (重量11kg) |
渦輪泵(內(nèi)置裝置) | 排氣速度67?/秒 |
樣品臺 | 直徑72毫米 |
沉積源-樣品臺間距 | 可在0毫米至140毫米范圍內(nèi)調(diào)節(jié) |
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