shinkuu真空蒸鍍設備的特點

真空蒸發(fā)系統(tǒng)是在真空氣氛中使材料蒸發(fā)、蒸發(fā)，在樣品上形成薄膜的裝置。

通常使用渦輪分子泵在高真空下沉積薄膜，并且可以制造沒有雜質的薄膜。

真空設備用蒸鍍設備可以通過順序程序控制操作輕松創(chuàng)建高真空環(huán)境，具有緊湊且價格低廉的產(chǎn)品陣容，非常適合研究和開發(fā)。從大氣壓到 10x10 -4 Pa 區(qū)域的到達時間約為 5 分鐘。我們將通過轉換傳統(tǒng)的舊系統(tǒng)來加快研發(fā)速度。

VE-2013，桌面大小的緊湊型高真空氣相沉積系統(tǒng)

我們提供具有緊湊型 TMP + RP 排氣系統(tǒng)且價格低廉的清潔高真空氣相沉積系統(tǒng)。
取消復雜的排氣操作，僅通過觸摸面板開關的 ON/OFF 實現(xiàn)全自動控制。
通過結合小型渦輪分子泵（RP 放置在外部）實現(xiàn)緊湊的尺寸。它在桌子上的小空間里工作得很好。
金、鋁、鉻、銀等可以通過使用鎢籃進行氣相沉積。碳沉積使用使用特殊碳 ( SLC-30 ) 進行沉積的夾式沉積槍類型。
該機型專門用于電鏡樣品的預處理和金、鋁、鉻等薄膜的制備。

可靈活定制的固定式VE-2030

VE-2030 有多種附件（選項）。我們可以根據(jù)您的研究目的靈活應對定制。內(nèi)置渦輪分子泵和旋轉泵。
我們提供廣泛的服務，包括鎢籃氣相沉積、鉬舟、K 電池加熱、EB 槍和碳棒氣相沉積。