電阻測量儀EC-80P在多晶硅納米薄膜檢測中的運用
不同摻雜濃度的多晶硅納米薄膜,研究了摻雜濃度對多晶硅納米薄膜壓阻和電學(xué)修正特性的影響。利用低壓化學(xué)氣相淀積法制備了不同摻雜濃度的多晶硅納米薄膜,摻雜濃度分別為1.0×1020 cm-3、2.0×1020 cm-3、4.1×1020 cm-3和7.1×1020 cm-3。利用應(yīng)變系數(shù)測量裝置對不同摻雜濃度多晶硅納米薄膜的應(yīng)變系數(shù)進(jìn)行了測量;利用恒流源和萬用表測量不同摻雜濃度多晶硅納米薄膜的電學(xué)修正特性。實驗結(jié)果表明:多晶硅納米薄膜的應(yīng)變系數(shù)與摻雜濃度有關(guān),應(yīng)變系數(shù)范圍:33.38~38.41;利用電學(xué)方法能夠修正多晶硅納米薄膜的電阻,最大修正范圍可達(dá)15.4%。多晶硅納米薄膜具有較高的應(yīng)變系數(shù),適用于制作壓阻式傳感器;電學(xué)修正可用來調(diào)整多晶硅納米薄膜的電阻,進(jìn)而降低傳感器的失調(diào)。
日本napson便攜式導(dǎo)電薄膜無損(渦流法)電阻測量儀EC-80P
只需觸摸手持式探頭即可進(jìn)行電阻測量。
在電阻率/薄層電阻測量模式之間輕松切換
使用JOG撥盤輕松設(shè)置測量條件
連接到連接器的電阻測量探針是可更換的,因此它支持廣泛的電阻。
(電阻探頭:多可以使用2 + PN判斷探頭)
相關(guān)(硅,多晶硅,碳化硅等)半導(dǎo)體/太陽能電池材料
的新材料/相關(guān)功能性材料(碳納米管,DLC,石墨烯,銀納米線等)
導(dǎo)電薄膜相關(guān)的(金屬,ITO等)
硅基外延離子注入的樣品
化合物與半導(dǎo)體有關(guān)的(GaAs Epi,GaN Epi,InP,Ga等)
其他(*請與我們聯(lián)系)
無論樣品大小和形狀如何均可進(jìn)行測量(但是,大于20mmφ且表面平坦)
[電阻率] 1 m至200Ω·cm
(*所有探頭類型的總范圍/厚度500 um)
[抗熱阻] 10 m至3 kΩ/ sq
(*所有探頭類型的總范圍)
*有關(guān)每種探頭類型的測量范圍,請參閱以下內(nèi)容。
(1)低:0.01至0.5Ω/□(0.001至
0.05Ω- cm)(2)中:0.5至10Ω/□(0.05至0.5Ω-cm)
(3 ))高:10至1000Ω/□( 0.5至60Ω-cm)
(4)S高:1000至3000Ω/□(60至200Ω-cm)
(5)太陽能晶片:5至500Ω/□(0. 2至15Ω-cm)
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